| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 提供的光刻装置包括用于保持基底W的基底台WT，用于将带图案的光束投射至基底W的目标部分之上的投影系统PL，以及用于提供参考表面的隔离参考框架MF，相对于该参考框架测量基底W，其中，参考框架MF包括具有高热膨胀系数的材料。 | ||
| 申请公布号 | CN100595674C | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200410094716.9 | 申请日期 | 2004.11.12 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | P·R·巴特拉;W·J·博西;J·J·库伊特;C·C·M·鲁伊坦;B·A·J·鲁迪克休伊斯;M·坦布霍梅;F·米格彻布林克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种光刻装置，其包括：-用于提供辐射投射光束的照明系统；-用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于对投射光束在其截面中赋予图案；-用于保持基底的基底台；-基架，所述支撑结构和所述基底台支撑在所述基架上；-用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投影系统；以及用于提供参考面的与基架隔离的参考框架，相对于该参考面测量所述基底；其特征在于所述参考框架包括热膨胀系数大于或等于16×10-6/K的材料。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||