| 发明名称 | 光刻设备和运行该设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种光刻设备和运行该光刻设备的方法。所述光刻设备包括投影系统，和液体限制结构，该液体限制结构配置用以至少部分地将浸没液体限制到由投影系统、所述液体限制结构和衬底和/或衬底台所限定的浸没空间，其中在投影系统、液体限制结构和浸没空间内的浸没液体之间限定湿润气体空间，该湿润气体空间配置用以限制湿润气体。 | ||
| 申请公布号 | CN101676804A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200910173503.8 | 申请日期 | 2009.09.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·P·J·布鲁依杰斯腾斯;R·J·布鲁尔斯;H·詹森;S·兰德柯尔;A·J·梅斯特;B·詹森;I·A·J·托马斯;M·A·C·米兰达;G·特纳萨 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种光刻设备，包括：投影系统和液体限制结构，所述液体限制结构配置用以至少部分地将浸没液体限制到由投影系统、所述液体限制结构和衬底和/或衬底台所限定的浸没空间，其中在投影系统、液体限制结构和浸没空间内的浸没液体之间限定湿润气体空间，所述湿润气体空间配置用以限制湿润气体。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||