一种真空镀膜方法和系统

摘要

一种涉及镀膜的真空镀膜方法和系统，其方法为：未镀膜物品依次通过多个真空室和一个镀膜室中的输入通道从大气环境进入镀膜室进行镀膜，未镀膜物品在镀膜完成后成为已镀膜物品，该已镀膜物品通过移位装置被移动至镀膜室中的输出通道，已镀物品通过所述镀膜室、多个真空室中的输出通道输出至大气环境，该系统包括多个真空室和一个镀膜室，在大气、真空室和镀膜室的相邻两个环境之间设有真空阀，其特征在于：真空室和镀膜室中具有两条传输通道，其中一条为输入通道，另一条为输出通道，镀膜室中设置一移位装置，移位装置将输入通道端部的物品移动至输出通道端部，本发明成本低，设备利用率高，工作可靠，实用性高。

主权项

1.一种真空镀膜方法，其特征在于：它包括如下步骤：A、未镀膜物品依次通过多个真空室和一个镀膜室中的输入通道从大气环境进入镀膜室进行镀膜；B、所述未镀膜物品在镀膜完成后成为已镀膜物品，该已镀膜物品被移动至镀膜室中的输出通道；C、所述已镀物品通过A步骤所述的镀膜室和A步骤所述多个真空室中的输出通道输出至大气环境，所述的输出通道与输入通道运行方向相反。