发明名称 激光辐照方法和激光辐照装置
摘要 本发明的目的是提供一种激光辐照方法和激光辐照装置,该方法和装置通过阻挡线形光束的低强度部分,用强度更均匀的线形光束来照射某一受辐照表面,同时不会在该受辐照表面上形成因衍射而导致的条纹。在该激光辐照过程中,从激光振荡器101中发出的激光束穿过狭缝102以便阻挡该激光束的低强度部分,镜子103使该激光束的前进方向发生改变,并且凸柱面透镜104将在该狭缝处形成的像投影到受辐照表面106上。
申请公布号 CN101677061A 申请公布日期 2010.03.24
申请号 CN200910160531.6 申请日期 2005.03.24
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 田中幸一郎;山本良明
分类号 H01L21/268(2006.01)I;H01L21/20(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;B23K26/00(2006.01)I;B23K26/073(2006.01)I 主分类号 H01L21/268(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 毛 力
主权项 1.一种用于制造半导体设备的方法,包括:在基片上形成半导体膜;通过使激光振荡器所发出的激光束穿过狭缝,来阻挡所述激光束的低强度部分;以及用凸柱面透镜将在所述狭缝处形成的像投影到所述半导体膜的受辐照表面上,以使所述半导体膜结晶化;其中所述激光束在所述受辐照表面上被定形为线形光束,且在所述凸柱面透镜和所述受辐照表面之间设置从所述凸柱面透镜所处方位起旋转了90度的第二凸柱面透镜。
地址 日本神奈川县
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