发明名称 |
Verfahren zum Herstellen von Mikrohalbleiterbauelementen nach der Planartechnik unter Anwendung einer eigenen Phototechnik |
摘要 |
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申请公布号 |
AT263087(B) |
申请公布日期 |
1968.07.10 |
申请号 |
AT19660010742 |
申请日期 |
1966.11.21 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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分类号 |
C03C23/00;H01L21/00;H01L29/00 |
主分类号 |
C03C23/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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