| 发明名称 | 全环光子筛及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种全环光子筛，该全环光子筛包括：光子筛，该光子筛制作在透明介质上，其衍射孔径与相应菲涅耳环带宽度相等；刻蚀圆孔，该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处；该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律与光子筛圆环相同，从原来的偶数环增加到奇数环，或者从原来的奇数环增加到偶数环，在波带片的奇数环带和偶数环带都有透光部分，分别是奇数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀位相透光孔，每个透光孔的直径和相应的环带宽度相同，且该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成位相板。本发明同时公开了一种制作全环光子筛的方法。利用本发明，实现了光子筛聚焦衍射光强的提高，即实现了激光束远场衍射斑的主斑能量的提升。 | ||
| 申请公布号 | CN101676750A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200810222330.X | 申请日期 | 2008.09.17 |
| 申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 贾佳;谢长青;刘明 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 1、一种全环光子筛，其特征在于，该全环光子筛包括：光子筛，该光子筛制作在透明介质上，其衍射孔径与相应菲涅耳环带宽度相等；刻蚀圆孔，该刻蚀圆孔位于其余的菲涅耳环带处；该刻蚀圆孔数量和位置的决定规律与光子筛圆环相同，从原来的偶数环增加到奇数环，或者从原来的奇数环增加到偶数环，在波带片的奇数环带和偶数环带都有透光部分，分别是奇数环带的透光孔和偶数环带的刻蚀位相透光孔，每个透光孔的直径和相应的环带宽度相同，且该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成位相板。 | ||
| 地址 | 100029北京市朝阳区北土城西路3号 | ||