| 发明名称 | 用于抛光垫的衬垫和使用该衬垫的抛光垫 | ||
| 摘要 | 本发明提供可实现抛光的抛光垫和用于该抛光垫的衬垫，该抛光可实现抛光表面的优异平坦性和在抛光后的膜厚度的均匀性，和同时实现高抛光速率，且还具有抛光物体如绝缘膜或金属膜的优异抛光均匀性。所述衬垫满足以下要求：在23℃、静载荷27.6kPa、频率11Hz和振幅1μm的条件下的动态压缩粘弹性测量中，(1)动应力和变形之间的相位差不超过4度，和(2)变形的最大值与动应力的最大值的比([变形的最大值]/[动应力的最大值])不小于0.5μm/kPa。所述抛光垫包括用于抛光垫的衬垫层和抛光层。 | ||
| 申请公布号 | CN101678527A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200880016877.2 | 申请日期 | 2008.03.19 |
| 申请人 | 可乐丽股份有限公司 | 发明人 | 加藤充;菊池博文;加藤晋哉 |
| 分类号 | B24B37/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光垫的衬垫，其中在23℃、27.6kPa的静载荷、11Hz的频率和1μm的振幅的条件下进行动态压缩粘弹性测量时，(1)动应力和变形之间的相位差为4°或更小，并且(2)变形量的最大值与动应力的最大值的比[变形量的最大值]/[动应力的最大值]为0.5μm/kPa或更大。 | ||
| 地址 | 日本冈山县 | ||