| 发明名称 | 一氧化碳气体产生装置及方法以及渗碳用气氛气体产生装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一氧化碳气体的收获率高，而且能够进行减少了维护的运行的一氧化碳气体产生装置。具备：反应器，其将烃系气体、氧系气体和水蒸气作为原料气体导入，使所述原料气体与催化剂接触反应，发生烃系气体的燃烧反应及转化反应，由此作为氢气富集且一氧化碳气体浓度高的混合气体，产生一氧化碳气体，在所述反应器的下游导入水蒸气，由此一氧化碳气体的收获率高，而且能够进行减少了维护的运行。 | ||
| 申请公布号 | CN101679030A | 申请公布日期 | 2010.03.24 |
| 申请号 | CN200880017318.3 | 申请日期 | 2008.05.22 |
| 申请人 | 爱沃特株式会社 | 发明人 | 成田悟;松田英明;松林良祐;赤阪秀史;青木宽治 |
| 分类号 | C01B3/38(2006.01)I;B01J23/89(2006.01)I;C23C8/20(2006.01)I | 主分类号 | C01B3/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种一氧化碳气体产生装置，其特征在于，具有：反应器，其将烃系气体、氧系气体和水蒸气作为原料气体导入，使所述原料气体与催化剂接触反应，发生烃系气体的燃烧反应及转化反应，由此作为氢气富集且一氧化碳气体浓度高的混合气体，产生一氧化碳气体，在所述反应器的下游导入主要含有H2O的流体。 | ||
| 地址 | 日本国北海道 | ||