发明名称 制造发光装置之方法
摘要 本发明的一个目的是减小或消除具有有机化合物的发光元件中出现的各种缺陷模式(收缩、黑斑等)。本发明藉由使阻挡层111的上部或下部形成有曲率半径的曲面抑制在发光元件刚制造完成后就产生的不发光区,用多孔海绵清洗阳极110的表面以去除散布在阳极表面上的微粒,并在就要形成含有机化合物的层112前,藉由进行真空加热以去除其上配有TFT和阻挡层的整个基底表面上的吸收水,来抑制收缩出现。
申请公布号 TWI322635 申请公布日期 2010.03.21
申请号 TW092119437 申请日期 2003.07.16
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 村上智史;长尾里筑子;坂仓真之;仲泽美佐子;宫城德子;池田寿雄;土屋薰;石垣步;高桥正弘;松田宪之;大原宏树
分类号 H05B33/00 主分类号 H05B33/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种具有发光元件的发光装置的制造方法,发光元件具有阳极、与该阳极接触的含有机化合物的层,和与该含有机化合物的层接触的阴极,该方法包含的步骤有:形成阳极;形成覆盖该阳极端部的绝缘材料;用多孔海绵清洗该阳极的表面;在该阳极上涂覆聚(亚乙基二氧基噻吩)/聚(苯乙烯磺酸)水溶液;在形成含有机化合物的层之立即之前而进行真空加热;形成该含有机化合物的层;和形成阴极。
地址 日本