| 发明名称 | 湿浸式微影制程的控制方法及其操作系统 | ||
| 摘要 | 本发明之湿浸式微影制程的操作系统系依据晶圆完成湿浸式微影曝光后等候烘烤的状况来调整将晶圆导入湿浸式微影制程的速度，以使得已完成曝光的晶圆得以有效率且即时地烘烤。 | ||
| 申请公布号 | TWI322338 | 申请公布日期 | 2010.03.21 |
| 申请号 | TW095109043 | 申请日期 | 2006.03.16 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄永发;林思闽;尤春祺;曾焕廷;卢柏州 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 代理人 | 戴俊彦 | |
| 主权项 | 一种晶圆之湿浸式微影制程的控制方法，该湿浸式微影制程依序包含一湿浸式微影曝光步骤以及一烘烤步骤，该控制方法系依据等候进行该烘烤步骤之已曝光晶圆的数目来调整晶圆导入该湿浸式微影曝光步骤的速度。 | ||
| 地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 | ||