| 摘要 |
本发明系提供一种磁碟片用基板，其系可藉由磁碟片用基板之制造方法而获得，并且具有长波长波纹度为0.05 nm以上0.3 nm以下且AFM表面粗度为0.03 nm以上0.2 nm以下之表面特性者，上述磁碟片用基板之制造方法系具有(a)使用含有平均粒径为0.05~0.5 μm氧化铝研磨粒与氧化剂的研磨液(研磨液组合物A)研磨加工基板之步骤，以及(b)使用含有平均粒径为0.005~0.1 μm二氧化矽粒子之研磨液(研磨液组合物B)研磨加工基板之步骤者。该磁碟片用基板可适宜使用于高记录密度硬碟之制造。特别是可产业性实施50 G位元/平方英寸以上之高记录密度硬碟的制造。 |
