发明名称 免疫层析试验片之测定装置及光源装置
摘要 测定头41包含有第1、第2构件51、61以及筒状构件71。第1构件51中系连续地形成有贯通第1构件51之第1~第5孔部52~56。第2构件61中系连续地形成有贯通第2构件61之第6~第8孔部62~64。第2构件62系内插于第5孔部56而被固定。半导体发光元件23系插入第6孔部62。筒状构件71具有第1筒部分72和第2筒部分73,系内插于第4孔部55。透镜27系由形成在第2孔部53与第3孔部54的疆界部之段部和第1筒部分72所夹持固定。光束整形构件25系由形成在第4孔部55与第5孔部56的疆界部之段部和第2构件61所夹持固定。
申请公布号 TWI322263 申请公布日期 2010.03.21
申请号 TW093104867 申请日期 2004.02.26
申请人 滨松赫德尼古斯股份有限公司 发明人 山内一德
分类号 G01N21/17 主分类号 G01N21/17
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种免疫层析试验片之测定装置,其系具备有:用以测定光照射到免疫层析试验片上的照射光学系统,及可检出依该测定光的照射所产生从免疫层析试验片上反射的反射光之检出光学系统,其特征为:该照射光学系统具有:半导体发光元件,及光束整形构件,其可将来自于该半导体发光元件的光整形成具有沿着与形成于该免疫层析试验片上之显色线为略平行的方向延伸之光束剖面的光,及用以将来自于该光束整形构件的光成像于该免疫层析试验片上的透镜,及配置于该半导体发光元件与该光束整形构件之间、用以除去杂散光之筒状的第1遮光部,及配置于该光束整形构件与该透镜之间、用以除去杂散光之筒状的第2遮光部,及配置于该透镜与该免疫层析试验片之间、用以除去杂散光之筒状的第3遮光部。
地址 日本