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发明名称
在曲面上藉由压印形成立体图案之方法
摘要
本发明提供一种在曲面基材上进行立体压印技术,压印技术可以不受光源波长的限制去制作解析度小于100nm以下的线路图案,是一种极具有潜力的微奈米元件制程技术。其中本发明先以光微影蚀刻的方式在矽晶圆上制作出立体图案,并利用图案转移技术将矽晶圆上的立体图案复制在具有与弯曲基材相同曲率之复合式压印模具上;并利用微(奈)米压印技术成功的在弯曲基材上制作出立体图案,藉此简化于曲面上之立体图案制作的程序,达到降低制造成本与提高生产效率。
申请公布号
TWI322331
申请公布日期
2010.03.21
申请号
TW095114236
申请日期
2006.04.21
申请人
国立成功大学
发明人
洪敏雄;方冠荣;吕英治;刘奇峰;洪昭南
分类号
G03F7/00;H01L21/027
主分类号
G03F7/00
代理机构
代理人
叶大慧
主权项
一种在曲面上藉由压印形成立体图案之方法,其包括下列步骤:a.在矽晶圆上形成立体结构;b.形成具曲面之复合压印模具;以及c.压印形成立体图案。
地址
台南市东区大学路1号
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