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发明名称
用于离子来源的发射器及其制造方法
摘要
本发明提供一种液态金属离子源之发射装置(100),该发射装置包含一线体(110),该线体包含一大致弯曲部(115)与一表面(120),其中该线体表面(120)之至少一部份(125)于该大致弯曲部(115)呈细尖状,以形成一发射尖端。此外,本发明更提供此种发射装置的制造方法。
申请公布号
TWI322443
申请公布日期
2010.03.21
申请号
TW095125318
申请日期
2006.07.11
申请人
ICT积体电路测试股份有限公司
发明人
皮尔兹沃夫格;比斯乔夫路德
分类号
H01J27/00
主分类号
H01J27/00
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
一种用于液态金属离子源的发射装置(100),其包括一单片线体(110),该线体包含一大致弯曲部(115),由该线体中之一弯曲所形成;一线体表面(120),围绕该线体周围延伸;该线体之细丝部(140,145),位于该大致弯曲部之侧面上以连接该线体(110)与支撑构件(150),其中,该线体表面(120)之至少一部份(125)于该大致弯曲部(115)呈细尖状,以形成一发射尖端;及一储存部(130),形成于该细丝部(140,145)之间并适以容置一液态金属源材料(135)。
地址
德国
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