| 发明名称 | 具有真空灭弧室的开关装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种按权利要求1前序部分所述的开关装置，其具有真空灭弧室，在该真空灭弧室内设置至少一个可运动的接触件。为了明显提高断流容量和介电强度，按本发明建议，在真空灭弧室内设置两个串联的、具有总共两个可打开的接触平面的接触结构。 | ||
| 申请公布号 | CN101675491A | 申请公布日期 | 2010.03.17 |
| 申请号 | CN200880014633.0 | 申请日期 | 2008.04.30 |
| 申请人 | ABB技术股份公司 | 发明人 | D·根奇 |
| 分类号 | H01H33/66(2006.01)I;H01H9/40(2006.01)I | 主分类号 | H01H33/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 董华林 |
| 主权项 | 1.开关装置，其具有真空灭弧室，在该真空灭弧室内设置至少一个可运动的接触件，其特征在于：在真空灭弧室内设置两个串联的、具有总共两个能打开的接触平面的接触结构。 | ||
| 地址 | 瑞士苏黎世 | ||