发明名称 气体流速校验系统和方法
摘要 本发明提供一种气体流速校验设备,它可以在多工具半导体处理平台用。此气体流速校验设备用来测量测试体积内的压力增长速率和温度,以确定相应的气体流速。所述设备包括:限定在第一室内的第一体积;限定在第二室内的第二体积,第二体积大于第一体积,其中通过至少一个阀门,使第二体积与第一体积相隔离,其中第一体积和第二体积中的每一个,或第一和第二体积两者可选为测量气体流速的测试体积;第一压力测量装置,它在结构上与第一体积或第二体积,或第一和第二体积两者,通过流体联通连接。本发明还提供一种校正质量流控制器的方法。
申请公布号 CN101672669A 申请公布日期 2010.03.17
申请号 CN200910147220.6 申请日期 2006.03.15
申请人 兰姆研究公司 发明人 V·王;R·J·迈内克
分类号 G01F1/34(2006.01)I;G01F7/00(2006.01)I;G01F17/00(2006.01)I;G01F22/02(2006.01)I;G01F25/00(2006.01)I 主分类号 G01F1/34(2006.01)I
代理机构 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人 蔡民军;胡 强
主权项 1.一种气体流速校验设备,包括:限定在第一室内的第一体积;限定在第二室内的第二体积,第二体积大于第一体积,其中通过至少一个阀门,使第二体积与第一体积相隔离,其中第一体积和第二体积中的每一个,或第一和第二体积两者可选为测量气体流速的测试体积;第一压力测量装置,它在结构上与第一体积或第二体积,或第一和第二体积两者,通过流体联通连接。
地址 美国加利福尼亚州