发明名称 METHOD FOR FORMING INSULATING FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 EP1608007(A4) 申请公布日期 2010.03.17
申请号 EP20040721668 申请日期 2004.03.18
申请人 HORIBA, LTD.;RENESAS TECHNOLOGY CORP.;ROHM CO., LTD. 发明人 TOMINAGA, KOJI;YASUDA, T.;NABATAME, TOSHIHIDE;IWAMOTO, KUNIHIKO
分类号 H01L21/316;H01L27/04;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/28;H01L21/3105;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/336;H01L21/822;H01L29/51;H01L29/78;H01L29/786 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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