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经营范围
发明名称
METHOD FOR FORMING INSULATING FILM IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
EP1608007(A4)
申请公布日期
2010.03.17
申请号
EP20040721668
申请日期
2004.03.18
申请人
HORIBA, LTD.;RENESAS TECHNOLOGY CORP.;ROHM CO., LTD.
发明人
TOMINAGA, KOJI;YASUDA, T.;NABATAME, TOSHIHIDE;IWAMOTO, KUNIHIKO
分类号
H01L21/316;H01L27/04;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/28;H01L21/3105;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/336;H01L21/822;H01L29/51;H01L29/78;H01L29/786
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
地址
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