| 发明名称 |
Projection lithography using a phase-shifting aperture |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP1346261(B1) |
申请公布日期 |
2010.03.17 |
| 申请号 |
EP20010984944 |
申请日期 |
2001.11.29 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHROEDER, UWE PAUL;MONO, TOBIAS |
| 分类号 |
G02B5/30;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G02B5/30 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
