| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。 | ||
| 申请公布号 | CN100594584C | 申请公布日期 | 2010.03.17 |
| 申请号 | CN200710160567.5 | 申请日期 | 2007.12.25 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 稻益寿史;太田义治;池田文彦;山崎刚;大塚庆崇 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;B65G49/00(2006.01)I;B65G49/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于：在沿水平的规定的搬送方向延伸的台上，通过气体压力使矩形的被处理基板浮起并沿所述搬送方向搬送，同时从沿着所述台配置的机构向所述基板供给规定的液体、气体、光或热实施规定的处理，在所述台上使所述基板在与所述搬送方向正交的方向上以相对水平面倾斜规定角度的姿势浮起，以在所述台上浮起的所述基板的低边的边缘与靠近所述台的滚轮外周面加压接触的方式在所述浮起台的一侧以规定的间距将多个侧面滚轮配置成一列，旋转驱动所述侧面滚轮进行所述基板的搬送。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||