发明名称 |
一种用于直拉硅单晶制备中的含氮掺杂剂的制备方法 |
摘要 |
一种用于直拉硅单晶制备中的含氮掺杂剂的制备方法,它包括以下步骤:(1)在坩埚中装入多晶硅料和高纯的氮化硅颗粒,加热到1450℃使多晶熔化,然后持熔体在1450℃~1470℃的熔融状态,并保持10~12的埚转;(2)多晶硅料和高纯氮化硅颗粒的质量比:6000/1-5500/1;(3)浮于熔体表面的氮化硅颗粒全部熔解后,保温1到2小时;(4)将坩埚上升到埚位100mm-400mm,并将氩气的流量开到100slpm-400slpm,使熔体快速冷却;(5)将冷却得到的含氮掺杂剂用碳化硅锤破碎成小块,混合均匀;(6)然后用化学纯的氢氟酸浸泡以去除合金上的二氧化硅,浸泡后的掺杂剂用纯水冲洗,放进烘箱烘干后备用。本方法简便,采用此种含氮掺杂剂向晶体中掺入氮元素不需要额外的装置和工序,容易控制晶体中的掺杂量,达到预期的掺杂要求。 |
申请公布号 |
CN101671841A |
申请公布日期 |
2010.03.17 |
申请号 |
CN200810222102.2 |
申请日期 |
2008.09.09 |
申请人 |
北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司 |
发明人 |
韩海建;戴小林;吴志强;王学峰 |
分类号 |
C30B15/04(2006.01)I;C30B31/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B15/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京北新智诚知识产权代理有限公司 |
代理人 |
郭佩兰 |
主权项 |
1、一种用于直拉硅单晶制备中的含氮掺杂剂的制备方法,其特征在于:它包括以下步骤:(1)在坩埚中装入多晶硅料和高纯的氮化硅颗粒,加热到1450℃使多晶熔化,然后保持熔体在1450℃~1470℃的熔融状态,并保持10~12的埚转;(2)多晶硅料和高纯氮化硅颗粒的质量比:6000/1-5500/1;(3)浮于熔体表面的氮化硅颗粒全部熔解后,保温1到2小时;(4)将坩埚上升到埚位100mm-400mm,并将氩气的流量开到100slpm-400slpm,使熔体快速冷却;(5)将冷却得到的含氮掺杂剂用碳化硅锤破碎成小块,混合均匀;(6)、然后用化学纯的氢氟酸浸泡以去除合金上的二氧化硅,浸泡后的掺杂剂用纯水冲洗,最后放进烘箱烘干后备用。 |
地址 |
100088北京市新街口外大街2号 |