发明名称 清除天然气分离器中单质汞的碱性清洗剂及清洗工艺
摘要 本发明公开一种即可彻底去除分离器中残留石蜡,又能将单质汞转化为不挥发的化合物,还可避免对碳钢及不锈钢产生腐蚀,成本低、无污染的清除天然气分离器中单质汞的碱性清洗剂及清洗工艺。所含原料及重量百分比如下:硫化钠、多硫化钠、硫代硫酸钠中的至少两种,其中硫化钠1~40%、多硫化钠0.1~15%、硫代硫酸钠1~35%;硝酸钠、磷酸钠、硫酸钠中的至少一种,其含量为0.1~10%;硫酸、磷酸中的一种,其含量为0.1~15%;非离子表面活性剂0.5~20%;阴离子表面活性剂0.5~10%;含氧溶剂0.5~15%;缓蚀剂0.1~10%;水小于或等于90%;pH值大于10.0。
申请公布号 CN101671606A 申请公布日期 2010.03.17
申请号 CN200910187717.0 申请日期 2009.09.29
申请人 大连三达奥克化学股份有限公司 发明人 吕栓锁;张红梅
分类号 C11D1/83(2006.01)I;C11D1/831(2006.01)I;C11D3/43(2006.01)I;C11D3/34(2006.01)I;C11D3/28(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I 主分类号 C11D1/83(2006.01)I
代理机构 大连非凡专利事务所 代理人 闪红霞
主权项 1.一种清除天然气分离器中单质汞的碱性清洗剂,其特征在于所含原料及重量百分比如下:硫化钠、多硫化钠、硫代硫酸钠中的至少两种,其中硫化钠1~40%、多硫化钠0.1~15%、硫代硫酸钠1~35%;硝酸钠、磷酸钠、硫酸钠中的至少一种,其含量为0.1~10%;硫酸、磷酸中的一种,其含量为0.1~15%;非离子表面活性剂0.5~20%;阴离子表面活性剂0.5~10%;含氧溶剂0.5~15%;缓蚀剂0.1~10%;水小于或等于90%;PH值大于10.0。
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