无定形碳膜

摘要

一种无定形碳膜，其密度为2.8-3.3g/cm³。优选地，所述膜具有1×10¹⁸-1×10²¹自旋/cm³的自旋密度、按原子百分数表示为至少99.5％的碳浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的氢浓度、按原子百分数表示为不超过0.5％的惰性气体元素浓度以及3000-7000的努氏硬度。由母材以及从B、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中选择的至少一种物质形成厚度至少0.5nm并且不超过10nm的混合层。所述无定形碳膜沉积在混合层或者在混合层上形成的金属中间层上，从而增加粘附性。该无定形碳膜是用固体碳利用溅射法、阴极弧离子镀法或激光烧蚀法形成的。

主权项

1.一种无定形碳膜，由下列各层构成：在基底材料表面上的混合层，所述混合层含有部分所述的基底材料以及从由B、Al、Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W组成的组中选择的至少一种物质，所述混合层的厚度等于或大于0.5nm并且等于或小于10nm；以及在所述混合层顶部形成的无定形碳层，其中所述无定形碳层是单层，并且该无定形碳层是通过阴极弧离子镀法或激光烧蚀法，使用固体碳作为原料并在真空度为0.05帕或更小的气氛中，且在不引入含有氢的气体的条件下形成的。