| 发明名称 |
Verfahren zum formändernden Bearbeiten eines kristallinen Körpers aus Halbleitermaterial, insbesondere eines Siliziumeinkristalls |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH468083(A) |
申请公布日期 |
1969.01.31 |
| 申请号 |
CH19680001969 |
申请日期 |
1968.02.09 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
SCHINK,NORBERT,DR. |
| 分类号 |
B23K26/08;B23K26/12;B23K26/142;C23F4/02;C30B33/00;H01L21/00;H01L21/268;(IPC1-7):H01L7/66;H01J37/00;H01S4/00 |
主分类号 |
B23K26/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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