光阻再生制程及其系统

摘要

本发明系关于一种光阻再生制程及其系统，利用低温浓缩抽离回收光阻溶液中的清洗溶剂，使其固含量达到原生光阻固含量以上，再经过滤装置除去回收光阻中的粒状物后，并添加光阻稀释剂以调整回收光阻之固含量及黏度使膜厚预测值接近原生光阻，以获得可再利用之再生光阻。经本发明之方法浓缩过后之再生光阻挥发性降低，有助于改善其涂布于基板时四角偏厚之现象。

主权项

一种光阻再生制程，包含下列步骤：(a)以常压低温浓缩抽离回收光阻溶液中之溶剂，使其固体含量达到高于原生光阻后即停止；(b)过滤去除前述常压低温浓缩后之回收光阻中的粒状物；(c)添加溶剂以调整回收光阻之固体含量及黏度；(d)监测前述调整后之回收光阻之固体含量(Co)及黏度(μo)；及(e)调整前述回收光阻固体含量及黏度，使其于固定转速下达成目标膜厚(Hf)，其中前述步骤(b)之过滤系通过包含至少一个孔径0.1~1.0μm过滤膜之过滤装置。