发明名称 |
内埋式线路结构及其工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种内埋式线路结构及其工艺。该内埋式线路结构工艺包括,提供基板、第一线路图案及介电层,其中第一线路图案及介电层配置在基板的基板表面上,且介电层覆盖第一线路图案。接着,经由激光加工移除局部的介电层,以形成凹陷图案于介电层的介电表面,并形成穿过介电层的至少一贯孔,其中贯孔暴露出第一线路图案的局部。接着,经由电镀将导电材料填入凹陷图案及贯孔,以形成第二线路图案于凹陷图案内,并形成导电孔道于贯孔内。接着,移除第二线路图案的超出凹陷图案的部分,以平整化第二线路图案至介电表面。 |
申请公布号 |
CN100593963C |
申请公布日期 |
2010.03.10 |
申请号 |
CN200710136821.8 |
申请日期 |
2007.07.17 |
申请人 |
欣兴电子股份有限公司 |
发明人 |
陈宗源;江书圣 |
分类号 |
H05K3/20(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I;H01L23/498(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波 |
主权项 |
1.一种内埋式线路结构工艺,包括:提供基板、第一线路图案及介电层,其中第一线路图案及该介电层配置在该基板的基板表面上,且该介电层覆盖第一线路图案;经由激光加工移除局部的该介电层,以形成凹陷图案于该介电层的介电表面,并形成穿过该介电层的至少一贯孔,其中该贯孔暴露出该第一线路图案的局部;经由电镀将导电材料填入该凹陷图案及该贯孔,以形成第二线路图案于该凹陷图案内,并形成导电孔道于该贯孔内;以及移除该第二线路图案的超出该凹陷图案的部分,以平整化该第二线路图案至该介电表面。 |
地址 |
中国台湾桃园县 |