发明名称 LCOS芯片像素器件结构及其制备方法
摘要 LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,每行或每列的像素单元包括一由p<sup>+</sup>-i-P电容器的上极板、薄膜绝缘层、p<sup>+</sup>-i-P电容器的下极板共同构成的p<sup>+</sup>-i-P电容器和一NMOS管,所述NMOS管中的NMOS管的漏极与p<sup>+</sup>-i-P电容器的上极板相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极相连形成一条扫描线,且每行像素单元中的扫描线由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线,且每列像素单元中NMOS管的源极连接到信号线,并包括所述信号线垂直于所述扫描线。
申请公布号 CN100593751C 申请公布日期 2010.03.10
申请号 CN200810053147.1 申请日期 2008.05.16
申请人 天津力伟创科技有限公司 发明人 范义;代永平;范伟
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;H01L27/105(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 天津市杰盈专利代理有限公司 代理人 赵 庆
主权项 1、LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底(1)上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,其特征在于,每行或每列的像素单元包括一由p+-i-P电容器的上极板(23)、薄膜绝缘层(6)、p+-i-P电容器的下极板(22)共同构成的p+-i-P电容器(24)和一NMOS管(12),所述NMOS管(12)中的NMOS管的漏极(8)与p+-i-P电容器的上极板(23)相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极(14)分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极(14)相连形成一条扫描线(31),且每行像素单元中的扫描线(31)由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线(32),且每列像素单元中NMOS管的源极(11)连接到信号线(32),并包括所述信号线(32)垂直于所述扫描线(31)。
地址 300384天津市华苑产业园区华天道2号火炬大厦5031室