| 发明名称 | 彩膜基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：提供一基板；在该基板上沉积含有导电材料的挡光层，经过防反射处理后，通过光刻法形成黑矩阵；利用光刻法在黑矩阵上依次形成色素层图案，利用光刻法刻蚀未被色素层覆盖的黑矩阵，露出黑矩阵中的导电材料；在黑矩阵和色素层上方沉积覆盖整个基板的透明导电薄膜，该层透明导电薄膜和黑矩阵中露出的导电材料电学连接。本发明方法得到的彩膜基板可降低共通电极上的信号延迟，改善液晶显示效果。 | ||
| 申请公布号 | CN100593748C | 申请公布日期 | 2010.03.10 |
| 申请号 | CN200810038305.6 | 申请日期 | 2008.05.30 |
| 申请人 | 上海广电光电子有限公司 | 发明人 | 田广彦 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人 | 白璧华 |
| 主权项 | 1、一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：提供一基板；在该基板上沉积含有导电材料的挡光层，经过防反射处理后，通过光刻法形成黑矩阵；利用光刻法在黑矩阵上依次形成色素层图案，利用光刻法刻蚀未被色素层覆盖的黑矩阵，露出黑矩阵中的导电材料；在黑矩阵和色素层上方沉积覆盖整个基板的透明导电薄膜，该层透明导电薄膜和黑矩阵中露出的导电材料电学连接。 | ||
| 地址 | 200233上海市徐汇区宜山路757号三楼 | ||