| 摘要 |
1. Устройство для нанесения оксидных композиционных покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру, генератор плазменных потоков, включающий в себя последовательно расположенные полый катод с эмиссионным отверстием и заполненный инертным рабочим газом сеточный анод, основной анод, систему подачи реакционного рабочего газа в вакуумную камеру и подложку для нанесения покрытий, отличающееся тем, что на торце генератора плазменных потоков дополнительно установлен распыляемый секционированный электрод, находящийся под более отрицательным потенциалом, чем сеточный анод, и имеющий электрически изолированные между собой и подсоединенные к отдельным источникам питания секции, выполненные из разных металлов и обращенные распыляемой поверхностью к подложке. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что между полым катодом и сеточным анодом установлен фильтрующий электрод. ! 3. Устройство по п.1 или 2, отличающееся тем, что генератор плазменных потоков находится в аксиально-симметричном магнитном поле, создаваемом, например, магнитной катушкой. |
