| 发明名称 | 真空处理装置 | ||
| 摘要 | 一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动，可分离地将上壳体与下壳体相连接。 | ||
| 申请公布号 | CN100593432C | 申请公布日期 | 2010.03.10 |
| 申请号 | CN200710110804.7 | 申请日期 | 2007.06.08 |
| 申请人 | IPS有限公司 | 发明人 | 曹生贤;安成一;朴勇俊;尹大根;金娧永 |
| 分类号 | B01J3/00(2006.01)I;B01J19/00(2006.01)I;B01J19/08(2006.01)I;C23C14/00(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I;C23F1/08(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I;C30B25/00(2006.01)I;C30B35/00(2006.01)I | 主分类号 | B01J3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中安信知识产权代理事务所 | 代理人 | 张小娟;徐 林 |
| 主权项 | 1.一种真空处理装置，包括：上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，用于通过相对于所述下壳体，沿水平的方向倾斜地移动所述上壳体，将所述上壳体与所述下壳体可分离地连接或者分离；其中，所述分离单元包括：一对导向单元，分别地设置在所述下壳体的相对侧，并且具有至少三个斜面；以及移动模块，具有挡块，分别地设置在斜面处，并且以所述上壳体和所述下壳体彼此连接的状态而沿着倾斜面移动。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道平泽市芝制洞33 | ||