发明名称 微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备
摘要 本发明公开了一种微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备,该设备包括微波功率源及传输系统101、微波谐振腔体102、工艺室与样品台系统103、真空系统104、气路系统105、自动传片系统106、控制系统107,其中,微波谐振腔体内设有等间隔排列的磁场装置306,样品台系统设在工艺室内部,微波谐振腔体、真空系统、自动传片系统分别与工艺室809相连,微波功率源及传输系统与微波谐振腔体相连,控制系统的主机内固化有控制软件,通过接口分别控制微波功率源及传输系统、工艺室与样品台系统、真空系统、气路系统的工作状态,完成薄膜的淀积工艺过程。本发明具有大面积均匀性好、淀积速率高、自动化程度和生产效率高、可靠性好、功耗小、稳定性和重复性好的优点。
申请公布号 CN100593585C 申请公布日期 2010.03.10
申请号 CN200710018516.9 申请日期 2007.08.21
申请人 西安电子科技大学 发明人 杨银堂;汪家友;付俊兴;刘毅;周端;俞书乐;陈光族;孙青
分类号 C23C16/511(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/511(2006.01)I
代理机构 陕西电子工业专利中心 代理人 王品华;黎汉华
主权项 1.一种微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积设备,包括微波功率源及传输系统(101)、微波谐振腔体(102)、工艺室与样品台系统(103)、真空系统(104)、气路系统(105),所述的微波谐振腔体(102)、真空系统(104)、气路系统(105)分别与工艺室与样品台系统(103)相连,其特征在于:工艺室与样品台系统(103)设有工艺室(809)、承片装置(801)和样品台(802),该工艺室(809)与自动传片系统(106)相连,该样品台(802)中设有加热装置(814),该自动传片系统(106)包括预真空室(701)、传片机械手(702)、放置在预真空室内的取片片盒(703)和置片片盒(704),取片片盒装载衬底光片,置片片盒装载薄膜晶片,传片机械手(702)从取片片盒中取出衬底光片,通过矩形阀(509)由预真空室进入工艺室(809),通过样品台承片装置(801)将晶片放置在样品台(802)上,并通过样品台承片装置将薄膜晶片取出,经矩形阀由工艺室进入预真空室,将薄膜晶片放置在置片片盒(704)中微波谐振腔体(102)采用上圆波导(301)-锥形波导(302)-下圆波导(313)三段一体结构,微波谐振腔体底部设有介质窗(303),该介质窗上设有磁场装置(306),该磁场装置采用三圈永磁磁铁(402)由内向外按不同半径和角度等间隔固定在无磁模板(401)上,即R1∶R2∶R3=1∶2∶3,θ1∶θ2∶θ3=4∶2∶1,形成环形相间排列结构;所述的每个系统均通过控制系统(107)控制。
地址 710071陕西省西安市太白路2号
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