| 发明名称 | 固态成像装置及其制造方法以及成像设备 | ||
| 摘要 | 可以同时实现充分的空穴积聚层和暗电流的减少。固态成像装置(1)包括对入射光进行光电转换的光接收部分(12)。该固态成像装置(1)具有形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上以降低界面态的膜(21)，以及形成在形成为降低界面态的膜(21)上且具有固定负电荷的膜(22)。空穴积聚层(23)形成在光接收部分(12)的光接收表面(12s)上。 | ||
| 申请公布号 | CN101669205A | 申请公布日期 | 2010.03.10 |
| 申请号 | CN200780052901.3 | 申请日期 | 2007.08.20 |
| 申请人 | 索尼株式会社 | 发明人 | 山口哲司;大岸裕子;安藤崇志;池田晴美 |
| 分类号 | H01L27/148(2006.01)I;H01L31/10(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/148(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种固态成像装置，其特征在于：所述固态成像装置包括对入射光进行光电转换的光接收部分，所述固态成像装置包括：设置在所述光接收部分的光接收表面上且降低界面态的膜；以及设置在所述降低界面态的膜上且具有固定负电荷的膜，其中空穴积聚层设置在所述光接收部分的光接收表面侧。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||