| 发明名称 | 处理装置、纵型热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种处理装置、纵型热处理装置，该纵型热处理装置具有移载机构，该移载机构具有移载板，并且在该移载板的上表面载置被处理基板时，在水平保持该被处理基板的状态下使上述移载板移动。上述移载板具有沿前后方向从基端部向前端部水平延伸的悬臂支承结构。在上述移载板的上表面设有在前后方向的大致部与后部水平支承被处理基板的多个支承突起部。在上述移载板的前端侧不支承上述被处理基板。 | ||
| 申请公布号 | CN101667530A | 申请公布日期 | 2010.03.10 |
| 申请号 | CN200910172117.7 | 申请日期 | 2009.09.04 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 浅利聪;高桥喜一;安部俊裕 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | 1.一种处理装置，其具有移载机构，该移载机构具有移载板，并且在该移载板的上表面载置被处理基板时，在水平保持该被处理基板的状态下使上述移载板移动，其特征在于，上述移载板具有沿前后方向从基端部向前端部水平延伸的悬臂支承结构，在上述移载板的上表面设有在前后方向的大致中央部与后部水平支承被处理基板的多个支承突起部，在上述移载板的前端侧不支承上述被处理基板。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||