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发明名称
Method of forming a dielectric layer in a semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100945999(B1)
申请公布日期
2010.03.09
申请号
KR20030042435
申请日期
2003.06.27
申请人
发明人
分类号
H01L21/31
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
地址
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