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发明名称 METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE FILM, CONTROL PROGRAM THEREOF, RECORDING MEDIUM AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR100945322(B1) 申请公布日期 2010.03.08
申请号 KR20077021725 申请日期 2006.03.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/31;H01L21/76 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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