发明名称 METHODS FOR THE FORMATION OF FULLY SILICIDED METAL GATES
摘要
申请公布号 KR100945785(B1) 申请公布日期 2010.03.08
申请号 KR20077000660 申请日期 2005.03.10
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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