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经营范围
发明名称
Vorrichtung und Verfahren zur Substratreinigung sowie Speichermedium
摘要
申请公布号
DE602008000514(D1)
申请公布日期
2010.03.04
申请号
DE200860000514T
申请日期
2008.01.29
申请人
TOKYO ELECTRON LTD.
发明人
HIROSHIRO, KOUKICHI;TOSHIMA, TAKAYUKI
分类号
B08B3/02;H01L21/00
主分类号
B08B3/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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