发明名称 Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
摘要 In einer Halbleitervorrichtung ist ein p-Bereich (2, 4) auf einem ersten n-Bereich (1) angeordnet. Ein zweiter n-Bereich (3) ist auf dem p-Bereich (2, 4) angeordnet und von dem ersten n-Bereich (1) durch den p-Bereich (2, 4) getrennt. Eine Gateelektrode (8) dient dazu, einen n-Kanal zwischen dem ersten und zweiten n-Bereich (1, 3) zu bilden. Eine erste Elektrode (6) ist elektrisch mit dem p-Bereich (4) und dem zweiten n-Bereich (3) verbunden. Eine zweite Elektrode (11) ist auf dem ersten n-Bereich so angeordnet, dass sie von dem p-Bereich (2) durch den ersten n-Bereich (1) getrennt ist und zumindest ein Teil von ihr in Kontakt mit dem ersten n-Bereich (1) ist. Die zweite Elektrode (11) besteht aus einem beliebigen Metall oder einer beliebigen Legierung und dient dazu, Löcher in den ersten n-Bereich (1) zu injizieren.
申请公布号 DE102009019234(A1) 申请公布日期 2010.03.04
申请号 DE200910019234 申请日期 2009.04.28
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP. 发明人 AONO, SHINJI;MORITANI, JUNICHI
分类号 H01L29/739;H01L21/331;H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L29/739
代理机构 代理人
主权项
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