| 发明名称 | 集成电容 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种集成电容，包含：第一梳形金属结构；第二梳形金属结构，与第一梳形金属结构交错；以及曲形金属结构，设置于第一梳形金属结构与第二梳形金属结构之间的空间内。本发明的集成电容因其特别的结构，能够占据较少电路面积且维持电容等级。 | ||
| 申请公布号 | CN101661932A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200910162083.3 | 申请日期 | 2009.08.11 |
| 申请人 | 联发科技股份有限公司 | 发明人 | 郑道;陈文淋 |
| 分类号 | H01L27/02(2006.01)I;H01L29/92(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京万慧达知识产权代理有限公司 | 代理人 | 葛 强;张一军 |
| 主权项 | 1.一种集成电容，包含：第一梳形金属结构；第二梳形金属结构，与上述第一梳形金属结构交错；以及曲形金属结构，设置于上述第一梳形金属结构与上述第二梳形金属结构之间的空间内。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区新竹市笃行一路一号 | ||