| 发明名称 | 触控面板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明是提出一种触控面板及其制造方法，所述方法其步骤包括提供一基板；形成一导电层于该基板；形成一电路于该导电层；以及形成折射率介于该导电层折射率的正负0.05间的一绝缘层于该导电层。本发明仅仅控制一膜层的折射率，就能够遮蔽导电层在蚀刻电路后所产生的光学干涉条纹，能够提升生产性并降低制造成本。 | ||
| 申请公布号 | CN101661355A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200810146813.6 | 申请日期 | 2008.08.25 |
| 申请人 | 时纬科技股份有限公司 | 发明人 | 曾馨贤 |
| 分类号 | G06F3/044(2006.01)I | 主分类号 | G06F3/044(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市浩天知识产权代理事务所 | 代理人 | 许志勇 |
| 主权项 | 1.一种触控面板的制造方法，其步骤包括：(a)提供一基板；(b)形成一导电层于该基板上；(c)形成一电路于该导电层上；以及(d)形成折射率介于该导电层折射率的正负0.05间的一绝缘层于该导电层上。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||