| 发明名称 | 电光学装置、电光学装置的制造方法和电子设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够抑制因制造时产生的裂纹等引起的强度的降低的电光学装置。电光学装置(2)具备以隔开规定的间隔对置的方式保持的一对基板，和配置在该一对基板间的电光学物质(7)，其特征在于：在上述一对基板的各自的与上述电光学物质(7)相反一侧的面上形成有硬膜层(9)。 | ||
| 申请公布号 | CN101661999A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200910168493.9 | 申请日期 | 2009.08.26 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 深川刚史 |
| 分类号 | H01L51/50(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 雒运朴;李 伟 |
| 主权项 | 1.一种电光学装置，其特征在于，其具备以隔开规定的间隔对置的方式被保持的一对基板、和配置在该一对基板间的电光学物质，在上述一对基板各自的与上述电光学物质相反一侧的面上形成有硬膜层。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||