曝光方法及曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光方法及曝光装置。使基板(1)固定支承于四边基板支承构件(11)。将绘有图形的光掩模(2)配置于基板(1)的覆盖感光层的位置。通过光掩模(2)将光照射到基板(1)的感光层从而将图形转印到基板上。曝光时，光掩模(2)和基板(1)互相均匀地接触，并且使基板支承构件(11)及基板(1)变形为期望的弯曲形状的状态。基板支承构件(11)以沿与互相对置的第一对侧缘部相同的方向上延伸的第一轴，和沿与互相对置的第二对侧缘部相同的方向上延伸的第二轴为中心，一边分别控制弯曲量，基板支承构件(11)一边与基板(1)共同弯曲。由此，图形的尺寸实质地变化而转印到基板(1)上。

主权项

1.一种曝光方法，将绘有图形的光掩模配置于对表面形成有感光层的基板的感光层进行覆盖的位置上，在使所述光掩模与所述基板互相均匀接触后，使光通过所述光掩模并照射到所述基板的感光层上，从而将所述图形转印到所述基板上，其特征在于，准备整体呈四边形且具有互相对置的第一对侧缘部和互相对置的第二对侧缘部的板状的基板支承构件，以使所述感光层与所述光掩模的绘有所述图形的表面相对置的方式，将所述基板在不产生相对错位的状态下固定支承于所述基板支承构件的主面上，使所述基板支承构件以沿与所述第一对侧缘部相同的方向延伸的第一轴为中心、或以沿与所述第二对侧缘部相同的方向延伸的第二轴为中心，独立地一边控制弯曲量一边弯曲，从而使所述基板支承构件与所述基板一起变形为期望的弯曲形状，在所述光掩模与所述基板互相均匀接触，并且所述基板支承构件及所述基板变形为所述期望的弯曲形状的状态下，使光通过所述光掩模而照射到所述感光层上，从而使所述图形的尺寸实质性变化而转印到所述基板上。