发明名称 |
显影辊以及包括该显影辊的电子照相处理盒和电子照相图像形成设备 |
摘要 |
本发明涉及显影辊以及包括该显影辊的电子照相处理盒和电子照相图像形成设备。本发明涉及具有能够有效抑制低分子量组分从弹性层渗出的表面层的显影辊,其能够有效赋予负带电性调色剂以高电荷,并且调色剂脱模性优良。所述显影辊具有芯轴,至少一层设置于所述芯轴上的弹性层,和设置于所述弹性层上的表面层,所述显影辊承载和输送调色剂,并用所述调色剂将在相对的感光构件上的静电潜像显影,以及所述表面层包括含Si、N、C和H的硅化合物膜,所述表面层具有特定的存在元素Si、N、C和H的总丰度和特定丰度比N/Si、C/Si和H/Si。 |
申请公布号 |
CN101661251A |
申请公布日期 |
2010.03.03 |
申请号 |
CN200910166546.3 |
申请日期 |
2009.08.20 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
阿南严也;山内健一 |
分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇;闫俊萍 |
主权项 |
1.一种显影辊,其包括芯轴、至少一层设置于所述芯轴上的弹性层、和设置于所述弹性层上的表面层,所述显影辊承载和输送调色剂,并将在相对的感光构件上的静电潜像用所述调色剂显影,其中所述表面层包括含Si、N、C和H的硅化合物膜;和在所述表面层中,通过X射线光电子能谱法和弹性反冲探测分析测量的,Si、N、C和H的存在元素总数相对于全部元素的比例为90.00%以上,和N与Si的丰度比N/Si为0.20以上至1.00以下,C与Si的丰度比C/Si为0.30以上至1.50以下,和H与Si的丰度比H/Si为0.15以上至0.35以下。 |
地址 |
日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号 |