发明名称 |
电化学器件及在电化学器件的TiO<sub>2</sub>层表面生成0H自由基的方法 |
摘要 |
电化学器件,其包括:(a)半导体层,其中该半导体是硅或碳化硅,且其中该层具有1至1000微米的厚度;(b)在所述半导体层上的TiO<sub>2</sub>层,其中该层可以包括碱土金属氧化物MO,其最多可达使得该层是MTiO<sub>3</sub>的量,且其中该层具有5纳米至1微米的厚度;(c)在TiO<sub>2</sub>层上的惰性金属栅,该栅排列为能够施加跨越TiO<sub>2</sub>层的电场;和(d)在所述半导体层上的欧姆接触。 |
申请公布号 |
CN100593229C |
申请公布日期 |
2010.03.03 |
申请号 |
CN200580033751.2 |
申请日期 |
2005.09.02 |
申请人 |
GEN-X动力公司 |
发明人 |
P·A·克里斯滕森;N·G·赖特;T·A·埃杰顿 |
分类号 |
H01L21/18(2006.01)I;C02F1/467(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
林柏楠;刘金辉 |
主权项 |
1.电化学器件,其包括:(a)半导体层,其中该半导体是硅或碳化硅,且其中该层具有1至1000微米的厚度;(b)在所述半导体层上的TiO2层,且其中该层具有5纳米至1微米的厚度;(c)在TiO2层上的惰性金属栅,该栅排列为能够施加跨越TiO2层的电场;和(d)在所述半导体层上的欧姆接触。 |
地址 |
库克群岛(新)拉罗汤加岛 |