用纳米级雾状化学剂处理基片的系统

摘要

本实用新型涉及一种用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，包括基片清洗容器，其具有顶盖和容器本体，该容器本体内部中间设有基片承载部分；该容器本体的侧面上部设有一组可使雾状化学剂、去离子水和氮气流入容器的阀门；容器本体底部设有一组通风和排水阀门；所述容器基片承载部分包括可旋转的基片承载盘和布置在所述基片承载盘上的周边部分、用于压紧所述单基片的离心压紧块。尤其适用于对12英寸以上的集成电路硅片和掩模板，以及高清晰的液晶、等离子、有机发光等新型显示器的平板基片湿处理过程，使湿处理工艺更加有效，最大限度地节约了化学剂和去离子水的消耗。

主权项

1.一种用纳米级雾状化学剂处理基片的系统，包括基片清洗容器，其具有顶盖和容器本体，该容器本体内部中间设有基片承载部分；该容器本体的侧面上部设有一组可使雾状化学剂、去离子水和氮气流入容器的阀门；容器本体底部设有一组通风和排水阀门；其特征在于，所述容器基片承载部分包括可旋转的基片承载盘和布置在所述基片承载盘上的周边部分、用于压紧所述单基片的离心压紧块。