成膜装置及基板处理装置

摘要

本发明提供一种成膜装置及基板处理装置。该成膜装置在配置有晶圆的旋转台的旋转方向上的反应喷嘴与反应喷嘴之间设有分离气体喷嘴，在分离气体喷嘴的旋转方向两侧设有用于形成较低的顶面的顶部构件。另外，将反应气体喷嘴、分离气体喷嘴沿着真空容器的周向装卸自由地设置，并且，将顶部构件装卸自由地设置于顶板上。

主权项

1.一种成膜装置，该成膜装置通过执行多次向基板表面按顺序供给在容器内互相反应的至少两种反应气体的循环来生成反应生成物的层，在上述基板上堆积膜，其中，该成膜装置包括：旋转台，其绕铅直轴线旋转自由地设置在容器内，包括沿着旋转方向载置基板的多个基板载置区域；2个以上反应气体供给部件，它们构成为向上述旋转台中的具有基板载置区域的面供给互不相同的反应气体，在上述旋转台的上述旋转方向上互相分离地设置于上述容器上；分离气体供给部件，其向被供给上述反应气体之一的第1处理区域、和被供给上述反应气体中的另一种气体的第2处理区域之间的上述基板的通过区域中供给第1分离气体，为了形成将上述第1处理区域和第2处理区域的气氛分离的分离区域而设置于上述真空容器上；顶部构件，其为了在旋转台上形成用于使上述第1分离气体从上述第1分离气体供给部件流动到上述第1处理区域且/或第2处理区域的狭小的空间，装卸自由地设置在上述真空容器的顶板与旋转台之间，可根据在该成膜装置中进行的工艺而从具有不同的形状的多个上述顶部构件中选择；中心区域，其位于上述真空容器内的大致中心部，包括向上述旋转台中的具有基板载置区域的面喷出第2分离气体而将上述第1处理区域与上述第2处理区域的气氛分离的喷出孔；排气口，其用于将扩散到上述分离区域两侧的上述第1分离气体及从上述中心区域喷出的上述第2分离气体与上述反应气体一同排出。