发明名称 多层电路组合及其制法
摘要 本发明提供制造多层电路组合之方法及此方法制造之多层电路组合。此方法包括(a)提供一种基材,其中至少一个区域包含多个导孔,这些区域具有500至10,000孔/平方英寸(75至1550孔/平方公分)之导孔密度;(b)将介电涂层涂布于基材之全部暴露表面上以在其上形成相符涂层;及(c)将一层金属涂布于基材之全部表面。亦可包括如电路化之额外处理步骤。
申请公布号 TWI321431 申请公布日期 2010.03.01
申请号 TW092131235 申请日期 2003.11.07
申请人 片片坚俄亥俄州工业公司 发明人 凯文C 欧森;爱伦E 王
分类号 H05K3/00 主分类号 H05K3/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项 一种制造多层电路组合之方法,其包含以下步骤:(a)提供一种基材,其中至少一个区域包含多个导孔,该区域具有500至10,000孔/平方英寸(75至1550孔/平方公分)之导孔密度;(b)将介电涂层涂布于基材之全部表面上,该介电涂层系包含可电沈积组合物,此组合物包含分散于水性介质中之树脂相,该树脂相具有以存在于该树脂相中之树脂固体总重量计为至少1重量%之共价地键结卤素含量;及(c)将一层金属涂布于该基材之全部表面。
地址 美国
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