发明名称 全自动双面曝光机
摘要 本创作系有关一种全自动双面曝光机,其包括有:一机台,至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区;一入料移载装置,跨设于该机台之入料区至下降翻板区之上方;第一曝光装置,设置于该机台之第一面曝光区;一下降翻板装置,设置于该机台之下降翻板区,一上升供板装置,设置于该机台之上升供板区;一出料移载装置,跨设于该机台之上升供板区至出料区之上方;第二曝光装置,设置于该机台之第二面曝光区;以及一单光源曝光模组,设置于该机台之上方且与各工作区位于同一轴线上者。藉此,用以解决先前技术增加装置就会增加机台长度之问题,而具有不增加机台长度即可加装品质提升装置之功效。
申请公布号 TWM375229 申请公布日期 2010.03.01
申请号 TW098216346 申请日期 2009.09.04
申请人 川宝科技股份有限公司 发明人 张鸿明
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 何崇熙
主权项 一种全自动双面曝光机,系包括有:一机台,于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区;一入料移载装置,跨设于该机台之入料区、第一面曝光区与下降翻板区之上方,而将板件由入料区移载至第一面曝光区,再由第一面曝光区移载至下降翻板区;第一曝光装置,设置于该机台之第一面曝光区,而以搭配有升降机构之第一顶升平台,承接该入料移载装置自入料区移载过来之板件,再由该第一顶升平台将板件顶升贴靠于第一曝光平台之下缘;一下降翻板装置,设置于该机台之下降翻板区,而以一搭配有升降机构及翻转机构之吸板平台,吸着住该入料移载装置自第一面曝光区移载过来之板件,并下降且将板件翻面,而由第一输送平台承接板件;一上升供板装置,设置于该机台之上升供板区,而以搭配有升降机构之第二输送平台,承接自第一输送平台输送过来之板件且上升供板;一出料移载装置,跨设于该机台之上升供板区、第二面曝光区与出料区之上方,而将由该上升供板装置供板之板件移载至第二面曝光区,再由第二面曝光区移载至与出料区;第二曝光装置,设置于该机台之第二面曝光区,而以搭配有升降机构之第二顶升平台,承接该出料移载装置自上升供板区移载过来之板件,再由该第二顶升平台将板件顶升贴靠于第二曝光平台之下缘;以及一单光源曝光模组,设置于该机台之上方且与各工作区位于同一轴线上,而将单一光源之光束于镜碗中集光后,向上投射至一可切换偏转向之冷光镜,反射后经由第一或第二聚焦镜照射于第一或第二平面反射镜,再反射至第一或第二曲面反射镜,而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平台者。
地址 桃园县芦竹乡内溪路39巷46弄6号