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经营范围
发明名称
Chemical Vapor Deposition Reactor and Method
摘要
申请公布号
AU2009202611(A1)
申请公布日期
2010.02.18
申请号
AU20090202611
申请日期
2009.06.30
申请人
GANG LI
发明人
GANG LI
分类号
C23C16/455;C30B25/14
主分类号
C23C16/455
代理机构
代理人
主权项
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