发明名称 制造薄膜的方法和设备以及制造电子装置的方法
摘要 本发明涉及制造薄膜的方法和设备以及制造电子装置的方法。制造薄膜的方法包括如下步骤:将薄膜形成材料与表面活性剂混合来制备其中分散有薄膜形成材料的分散液;在环形保持装置的内周界侧由所述分散液形成分散液膜;在圆筒状支撑体与所述分散液膜保持相互接触的情况下使它们彼此相对移动以使所述分散液被转移到所述支撑体表面上形成膜状,其中所述支撑体沿着所述保持装置的内周界被放置于所述保持装置的内部空间的部分和其外周界之间;和使所述支撑体表面上的膜状分散液干燥形成所述薄膜。
申请公布号 CN101648183A 申请公布日期 2010.02.17
申请号 CN200910166411.7 申请日期 2009.08.12
申请人 索尼株式会社 发明人 角野宏治
分类号 B05D7/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;B05D3/00(2006.01)I;B05C9/00(2006.01)I;B05C11/11(2006.01)I;B05C13/00(2006.01)I;C01B31/00(2006.01)I;H01L29/772(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;B81C5/00(2006.01)I 主分类号 B05D7/00(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 肖善强;南 霆
主权项 1.一种制造薄膜的方法,其包括:将薄膜形成材料与表面活性剂混合来制备其中分散有薄膜形成材料的分散液的第一步骤;在环形保持装置的内周界侧由所述分散液形成分散液膜的第二步骤;在圆筒状支撑体与所述分散液膜保持相互接触的情况下使它们彼此相对移动以使所述分散液被转移到所述支撑体表面上形成膜状的第三步骤,其中所述支撑体沿着所述保持装置的内周界被放置于所述保持装置的内部空间的中央部分和其外周界之间;和使所述支撑体表面上的膜状分散液干燥形成所述薄膜的第四步骤。
地址 日本东京都
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