发明名称 |
用于制版掩膜的喷墨记录用片材及制造苯胺印刷版的方法 |
摘要 |
提供用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它具有良好的曝光性质,并在减压下与光敏树脂版接触时显示出良好的透气性。一种用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它包括基片和形成在其上的多孔层,它具有JIS-K7361-1所规定的至少70%的总光透射比,其中,所述多孔层含有100质量份的无机颗粒,1-30质量份的粘合剂,以及0.1-3质量份的平均粒度为4-15μm的多孔颗粒,所述无机颗粒选自于氧化铝、水合氧化铝、二氧化硅和二氧化硅-氧化铝复合物,其平均粒度为最大为250nm,并且所述多孔层的厚度为5-50μm,J.TAPPI No.5-2所规定的奥肯型平滑度为200-10000秒。 |
申请公布号 |
CN100590524C |
申请公布日期 |
2010.02.17 |
申请号 |
CN200510108494.6 |
申请日期 |
2005.09.29 |
申请人 |
三菱制纸株式会社 |
发明人 |
中尾卓也;山田泰男 |
分类号 |
G03F1/16(2006.01)I;G03F1/08(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/16(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
沙永生 |
主权项 |
1.一种用于制版掩膜的喷墨记录用片材,它包括基片和形成在其上的多孔层,所述记录用片材具有JIS-K7361-1所规定的至少70%的总光透射比,其中,所述多孔层含有100质量份的无机颗粒,1-30质量份的粘合剂,以及0.1-3质量份的平均粒度为4-15μm的多孔颗粒,所述无机颗粒选自于氧化铝、水合氧化铝、二氧化硅或二氧化硅-氧化铝复合物,所述无机颗粒的平均粒度最大为250nm,所述多孔层的厚度为5-50μm,且J.TAPPI No.5-2所规定的的奥肯型平滑度为200-10000秒。 |
地址 |
日本东京 |